在放大倍数较低的时候，TEM成像的对比度主要是由于材料不同的厚度和成分造成对电子的吸收不同而造成的。而当放大率倍数较高的时候，复杂的波动作用会造成成像的亮度的不同，因此需要知识来对所得到的像进行分析。通过使用TEM不同的模式，可以通过物质的化学特性、晶体方向、电子结构、样品造成的电子相移以及通常的对电子吸收对样品成像。台TEM由马克斯·克诺尔和恩斯特·鲁斯卡在1931年研制，这个研究组于1933年研制了台分辨率超过可见光的TEM，而台商用TEM于1939年研制成功。
所以反映在电镜图像上，改变焦距的时候会出现两个严重的拉伸，拉伸方向可能因样品而不同，但是这两个拉伸方向一定正交。所以此时将焦距调节至两个拉伸明显状态的中间位置，基本固定焦距。然后在此焦距下，进行消像散线圈的调节，先调X或Y中的一个维度，待图像达到清楚后再调节另一个维度。
有关拉伸方向的判断并不困难，试样中的各种特征点都可以作为判断依据，比如孔洞或者颗粒，或者样品边缘，都可以轻易的进行判断。尤其在像散比较大时，盐渍胁迫电镜技术服务，不要焦距和像散的两个维度乱调一气，以免像散过大而完全无从判断。
扫描电子显微镜电子发射出的电子束经过聚焦后汇聚成点光源；点光源在加速电压下形成高能电子束；高能电子束经由两个电磁透镜被聚焦成直径微小的光点，在透过后一级带有扫描线圈的电磁透镜后，电子束以光栅状扫描的方式逐点轰击到样品表面，同时激发出不同深度的电子信号。此时，电子信号会被样品上方不同信号的探头接收，通过放大器同步传送到电脑显示屏，形成实时成像记录（图a）。由入射电子轰击样品表面激发出来的电子信号有：俄歇电子（Au E）、二次电子（SE）、背散射电子（BSE）、X射线（特征X射线、连续X射线）、阴极荧光（CL）、吸收电子（AE）和透射电子（图b）。每种电子信号的用途因作用深度而异。
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