FOXIN-PVD 多弧离子溅射镀膜机 www.foxinzk.com/www.foxinzk.cn 设备特点：配置多只高效弧源或多个矩形平面弧源及偏压电源，选配多只空心阴极枪偏压作用下等离子体密度均匀和反应活性稳定 膜层种类：TiN,TiC,TiCN,TiCrN,TiCrCN,TiAlCrN,多层超硬膜等 膜层特点：膜层致密性和结合力强、膜层均匀、硬度高 备注：镀膜设备的具体配置可根据
