聚焦系统的作用是将平行的激光束聚焦于一点。主要采用f-θ透镜，不同的f-θ透镜的焦距不同，打标效果和范围也不一样，半导体激光打标机，光纤激光打标机选用进口聚焦系统，其标准配置的透镜焦距f=160mm，激光打标机，有效扫描范围Φ110mm。用户可根据需要选配型号的透镜。
可选配的F-θ透镜有：
f=100mm，激光打标机设备，有效聚焦范围Φ65mm。
f=160mm，激光打标机，有效聚焦范围Φ110mm。
冷加工”具有很高负荷能量的（紫外）光子，能够打断材料（特别是有机材料）或周围介质内的化学键，至使材料发生非热过程破坏。这种冷加工在激光标记加工中具有特殊的意义，因为它不是热烧蚀，而是不产生'热损伤'副作用的、打断化学键的冷剥离，因而对被加工表面的里层和附近区域不产生加热或热变形等作用。例如，电子工业中使用准分子激光器在基底材料上沉积化学物质薄膜，在半导体基片上开出狭窄的槽。
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