这一阶段应具有的抛光速率，处理这个抵牾的的方法便是把抛光分为两个阶段停止。粗抛目标去除磨光侵害层。粗抛构成的表层损害长短主流的考虑，不外也该当尽量小；其次是精抛或称终抛其目标去除粗抛发生的表层损害，使抛光毁伤减到小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上，看重戒备试样飞出和因压力太大而发生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径偏向往返挪动，以戒备抛光织物全体磨损太快在抛
