用工业品三乙醇0胺减压蒸馏精制提取。早在三乙醇0胺1997年,三乙醇0胺厂家,人们就认为在2003年,集成电路工艺中将使用的绝缘材料的介电常数(k值)将达到1.5。然而随着时间的推移,这种乐观的估计被不断三乙醇0胺更新。到2003年,国际半导体技术规划(ITRS 2003[7])给出低介电常数材料在集成电路未来几年的应用,丽水三乙醇0胺,其介电常数范围已经变成2.7~3.1。造成三乙醇0