美国光学与光子学界如何研发出新的光源和成像工具，使光学制造业的分辨率提升一个甚至多个量级？解决这个重大挑战可有助于减轻光刻中的设计限制，同时提升三维闭环与自动加工能力。极紫外(EUV)光学是一项待开发的挑战性技术，也是满足未来光刻需求的必备。超越EUV的下一代技术是软X射线光学。同样，用于三维制造的激光堆焊分辨率取决于所采用激光器的波长，较短的波长可实现更加精密的增材制造，甚至终实现光学元件的三维
