真空镀膜设备背压检漏法真空镀膜设备背压检漏法当前位置:首页 >>新闻中心>>真空镀膜设备背压检漏法真空镀膜设备背压检漏法背压检漏法是一种充压检漏与真空检漏相结合的方法,真空镀膜设备中多用于封离后的电子器件、半导体器件等密封件的无损检漏技术中。其检漏过程基本上可分为充压、净化和检漏三个步骤。(1)充压过程是将被检件在充有高压示漏气体的容器内存放一定时间,如被检件有漏孔,示漏气体就可以通过漏孔