洁净室光刻的退化。在半导体洁净室中迫切需要适度控制的是光刻胶的敏感性。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是严格的。相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精que的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。 无尘车间-洁净厂房的竣工验收，洁净无菌车间，是在各分部单
