聚氨酯抛光垫高清图片 高清大图

聚氨酯抛光垫、氧化铈抛光皮、CMP抛光垫，日本技术，生产，国内国际优势价格： 



 

产品代号	主成份	含量	密度(g/cm3)	硬度(JIS-A)

SH66/77	CeO2	23-25%	0.45	77-80

SH57	Unfilled	Unfilled	0.62	95

SH85	Fe2O3	7.7%	0.66	87



SH聚氨酯抛光垫的密度、硬度、厚度、孔隙率、添加成份、微孔沟