光刻板又称光掩模版、掩膜版，光罩，英文名称 MASK 或 PHOTOMASK），材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃或者苏打玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶。（感光胶又称光致抗蚀剂，是利用光化学反应进行图形转移的媒体性精细化学品，根据不同的用途性能等有多种型号，目前光掩模版大多数都是用的正性胶。光刻正性胶在经激光照射后，曝i光区的邻重氮萘醌化合物发生光解反应重排成羧酸，使
