光刻机可以说每个部件都是科技含量很高，步步困难重重。 瓶颈主要集中在透镜、掩膜版、光源、能量控制器等。 下面简单单介绍光刻机的结构和工作原理： 光刻机的光源有：激光，紫外光、深紫外光、极紫外光。现在技术是极紫外光。 下图是以激光为光源的光刻机简易工作原理图： 在制造芯片时，首先在晶圆（硅晶片）表面涂光感胶，再用光线透过掩模版（相当于芯片电路图纸的底片）照射硅片表面，被光线照射到的光感胶会
