磁控溅射镀膜设备技术的特点(1)离子轰击渗扩更快因为选用低温等离子无心插柳，大样片磁控溅射镀膜机工作原理，为渗剂分子和正离子的吸咐和渗人造就了高宽比活性的表层，提升了结晶中缺点的相对密度，比传统式的汽体渗扩技术性速率明显增强。在一样加工工艺标准下，渗层深度1在0.05二以内，比汽体渗扩提升1倍。在较高溫度下，1h就能达lmm厚。(2)对钢件表层改性材料成效显著，工艺性能高，真空泵加温易清
