反应性离子刻蚀以下是创世威纳为您一起分享的内容，创世威纳生产反应性离子刻蚀机，欢迎新老客户莅临。反应性离子刻蚀 （reaction ionetching；RIE）是制作半导体集成电路的蚀刻工艺之一。在除去不需要的集成电路板上的保护膜时，利用反应性气体的离子束，切断保护膜物质的化学键，使之产生低分子物质，挥发或游离出板面，这样的方法称为反应性离子刻蚀。 反应离子刻蚀的工作原理通常情况下，反
