磁控溅射镀膜机以下内容由创世威纳为您提供服务，希望对同行业的朋友有所帮助。ITO 薄膜的磁控溅射靶主要分为InSn 合金靶、In2O3-SnO2 陶瓷靶两类。在用合金靶制备ITO 薄膜时，由于溅射过程中作为反应气体的氧会和靶发生很强的电化学反应，磁控溅射，靶面覆盖一层化合物，使溅射蚀损区域缩得很小(俗称“靶zhong毒”) ，以至很难用直流溅射的方法稳定地制备出的ITO 膜。也就是说，采
