名 称：铬符 号：Cr原子量：51.9961熔 点：1907℃沸 点：2671℃密 度：7.19g/cm3 ? ?高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电性能优越等特点，可广泛用于半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及光学材料镀膜。我公司可提供脱氧脱气高纯铬粉，高纯钌颗粒 钌粒 钌块，并且经过热等静压及机械加工成块状、片状、棒状等各种铬靶，具有纯度高、
