公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，光刻版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光刻是使用曝光的半导体器件制造过程中的重要步骤i光和显影描绘光致抗蚀剂层上的几何结构，然后通过蚀刻工艺将光掩模上的图案转移到衬底上。这里提到的衬底不仅包括硅晶片，还包括其他金属层和电介质层，例如SOS中的玻璃和蓝宝石。 公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，
