?洁净工程的发展：20世纪80年代大规模集成电路和超大规模集成电路的迅速发展，大大促进了洁净工程的发展，集成电路生产工程从64K位到4M位，特征尺寸从2.04m到0.84m。当时根据实践经验，通常空气洁净受控环境的控制尘粒粒径与线宽的关系为1:10，因此洁净工程工作者研制了超空气过滤器，可将粒径>0.1pm的微粒去除到规定范围。根据大规模、超大规模集成电路生产的需要，高纯气体、高纯水和高纯
