我国的洁净室工程开始于20世纪60年代初，在70年代电子工业洁净室特别是半导体集成电路用洁净室的设计、建造发展很快，相继建成一批洁净厂房，并研制成功100级单向流洁净室;与此同时，洁净厂房用设备和材料，如过滤器，洁净工作台、层流罩、洁净烘箱、空气吹渊室、净化型传递窗等相继研制成功，并投入生产，虽然制造质量和某些工程指标与国际水平尚有差距，但已能满足国内部分需求。由过滤器、净化设备和围护结构
