感应耦合等离子体刻蚀的原理以下是创世威纳为您一起分享的内容，创世威纳生产感应耦合等离子体刻蚀，感应耦合等离子体刻蚀机原理，欢迎新老客户莅临。感应耦合等离子体刻蚀法（Inductively Coupled Plasma Etch，简称ICPE）是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下，ICP 射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈，以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放
