脉冲激光沉积介绍脉冲激光沉积，激光脉冲沉积装置公司，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺
