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一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点： (1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。 (2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。 (3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体