ICP刻蚀机的测量与控制沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售ICP刻蚀机，气相化学沉积设备公司，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。由于等离子刻蚀工艺中的过程变量，如刻蚀率、气压、温度、等离子阻抗，等等，气相化学沉积设备多少钱，不易测量，因此业界常用的测量方法有：虚拟测量（Virtual Metrology）?等离子刻蚀过程控制示意图光谱测量等离子阻抗监控终端探测远程耦合传感
