标题在集成电路、半导体和电真空器件制造中用作保护气和运载气，化学气相淀积时的载气，液体扩散源的携带气，在高温扩散炉中用作器件的保护气。高纯氮在外延、光刻、清洗和蒸发等工序中，作为置换、干燥、贮存和输送用气体。显像管制造中要求氮气纯度为99.99%以上。在航天技术中，液氢加注系统需要先用高纯氮置换，高纯氧气瓶，再用高纯氦置换。 标题其光洁度可达D4-D6。为了降低费用提高切割效率与安全，高纯
