真空镀膜机所以在后掩蔽和清洗辊速度不太快 蒸发镀膜成分均匀性不易确保，与特定的因素能够操控，但由于有限的原理，对非单组分涂料，蒸发镀膜成分均匀性欠好。溅射能够简略地理解为电子或高能激光炮击方针的运用，使得外表成分的自由基或离子方式溅射，并堆积在衬底外表的成膜过程中，经历，终构成薄膜。真空镀膜机的设备溅射被分为很多类型，在溅射速率不同点和蒸发将变成一个首要的参数。激光溅射PLD溅射涂层
