随着的设备和工艺的发展，使纳米量级的测量成为可能。例如，变相光学干涉仪测量物体的表面粗糙度，目前可以达到1纳米的分辨率。在半导体领域，已生产出线宽在亚微米量级的集成电路，提出测量准确率小于50纳米的精度要求。这样的应用对系统中不同元件相关配合精度和稳定性提出了极高的要求。例如，用显微镜对图像进行高度放大的成像系统，显微镜和照像物镜共同决定了相纸上每点的图像。如果，在曝光过程中光学系统的每一部分(照
