EDI超纯水设备工作原理
半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，电子超纯水设备安装，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与细菌，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
超纯水设备技术应用出水符合电镀行业用水需要
超纯水设备技术应用 出水符合电镀行业用水需要电镀的本质是利用电解原理，让金属或其他材料的产品表面附有金属膜，使产品具有、耐腐蚀、、美观等功能。因此电镀行业对水质要求更为严格，稍有疏忽，后果就是影响产品美观，降低电镀工艺性能，电子超纯水设备价格，因此PCB电镀涂装工业经常使用超纯水设备，电子超纯水设备，以满足清洁用水的需要。 传统的超纯水制取工艺是采用阴阳树脂交换设备，其缺点是树脂使用一段时间后要经常再生。随着膜分离技术的不断成熟，采用反渗透工艺，或在反渗透后通过EDI和抛光混床工艺，以制得超纯水，其出水电导率可达18.2MΩ，符合电镀行业的用水需要。
知识点一：超纯水设备的工作原理。
超纯水设备是如何制取超纯水的呢其主要是对水施加一定的压力使水分子和离子态的矿物质元素通过反渗透膜，而溶解在水中的绝大部分无机盐、有机物以及细菌、病毒等无法截留在反渗透膜一侧，从而产出超纯水。
知识点二：超纯水设备的组成部分。
超纯水设备通常是由多介质过滤器，活性碳过滤器，精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成。
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