负性SU-8光刻胶旋涂为了创建稍后将成为模具的光刻胶层，我们使用匀胶机进行旋涂，旋转速度、加速度和 SU-8 光刻胶粘度将决定 SU-8 光刻胶层的厚度。要成功执行此步骤，必须采取一些预防措施：确保您的旋涂机完全平整。将晶圆尽可能居中放置在旋涂机卡盘上，以获得ziui佳的涂层分布。出于与晶片相同的原因，将您的光刻胶尽可能地居中。分两步涂覆 SU-8 光刻胶，一个在
