其缺点是：
1）工艺比传统单色PVD的更为复杂，流程更为繁杂，生产难度高；
2）生产良率低，大约为65～70%（传统单色PVD的生产良率一般为85～90%；
3）价格会比传统单色PVD的高50～60%；
4）因工艺和流程的影响，双色PVD生产限制较多，受产品结构的影响较大，而传统单色PVD则几乎不受限制
现代涂层设备(均匀加热技术、温度测量技术、非平衡磁控溅 射技术、辅助阳极技术、中频电源、脉冲技术) 现代涂层设备主要由真空室、真空获得部分、真空测量部分、电源供给部分、工艺气体输入系统、机械传动部分、加热及测温部件、离子蒸发或溅射源、水冷系统等部分组成。
蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，装饰镀钛厂家哪家好，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性气，处理镀钛厂家哪家好，在放电电场作用下部分气被电离，真空镀钛厂家哪家好，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的离子受阴极负高压的吸引，滕州镀钛厂家哪家好，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。
PVD（Physical Vapor Deition），在真空条件下，采用物理方法，使材料源表面气化成原子、分子或离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。
蒸发镀膜
真空条件下，将镀料加热蒸发或升华，材料的原子或分子直接在衬底上成膜的技术。根据加热方法的不同主要有以下几种蒸发镀膜技术。
采用电阻加热蒸发源的蒸发镀膜技术，一般用于蒸发低熔点材料，如铝、金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等；加热电阻一般采用钨、钼、钽等。
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