金属表面处理PVD镀钛种类：氮化钛(TiN)，镀铬(CrN)， ROSE，氮铝钛(TiAlN)，高铝钛(AlTiN)， PLUS，氮碳化钛(TiCN)，氮碳化铬(CrCN)等各种超硬膜层，其涂层厚度可达到0.5～5um，故而您不用担心会给尺寸带来麻烦，并以工艺使产品具有良好的润滑、散热（干式），使工件寿命可增加10～50倍，可提高600％工作效力，从而降低生产成本。
离子镀基本原理：在真空条件下，真空镀钛厂家服务电话，采用某种等离子体电离技术，萧县真空镀钛厂家，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
九、离子镀的工艺过程：蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。
靶材承受的功率密度是有限的.靶面温度过高会导致靶材熔化或引起弧光放电.在直接水冷的情况下，真空镀钛厂家服务，金属靶材的靶功率密度允许值为10~30W/cm2.根据选定的靶电压和允许的靶功率密度，即可确定靶电流密度.
降低Ar压强有利于提高镀膜速率，还有利于提高膜层结合力和膜层致密度.磁控溅射的Ar压强通常选为0.5Pa，真空镀钛厂家多少钱，气体放电的阻抗随Ar压强的降低而升高.磁控溅射时，可以适当调节Ar压强，
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