大宗特气供气系统介绍
大宗特气供气系统主要针对大规模量产的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大规模集成电路厂（气体种类包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太阳能电池生产线（气体种类包括NH3），发光二极管的磊晶工序线（气体种类包括NH3）、5代以上液晶显示器工厂（气体种类包括4、3、NF3）、光纤（气体种类包括SiCl4）、硅材料外延生产线（气体种类包括HCL）等行业。它们的投资规模巨大，采用1的工艺制程设备，用气需求量大，对稳定和不间断供应、纯度控制和安全生产提出严格的要求。
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电子特气管道系统氦检漏检测规定
1、氦检漏仪表应采用质谱型氦检测仪，其检测精度不得1*10-10mbar*l/s。
2、特气系统，内向测漏法测定的泄漏率不得大于1*10-9mbar*l/s;
3、阀座测漏法测定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s;
4、外向测漏法测定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s。
氦检漏发现的泄漏点经修补后，应重新经过气密性试验，合格后再按规定进行氦检漏。所有可能泄漏点应用塑料袋进行隔离。系统测试完毕，应充入高纯氮气，并进行吹扫。测试完毕后，高纯供气哪家好，应提交测试报告。
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高纯气体的输送管路系统
随着微电子工业的发展，超大规模集成电路制造的硅片尺寸越做越大，要求半导体制造工艺中的气体相应越来越高，对气体中杂质和露1点要求极为严格，需要达到ppb、ppt级，尘埃粒径求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此对高纯气体的输送管路系统提出了非常高的要求 。
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