基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了保证膜层质量，压强应尽可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时，沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子，因而形成的膜层结构疏松，颗粒粗大，处理不锈钢镀钛电话，缺陷多;反之，膜层结构均匀致密，机械强度高，膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下，基片温度高时，吸附原子的动能随之增大，焦作不锈钢镀钛电话，形成的薄膜容易结晶化，并使晶格缺陷减少;基片温度低时，则没有足够大的能量供给吸附原子，因而容易形成无定形态薄膜.
蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性气，在放电电场作用下部分气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，不锈钢镀钛电话，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。
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