基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了保证膜层质量，压强应尽可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时，沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子，因而形成的膜层结构疏松，镀钛厂家电话，颗粒粗大，缺陷多;反之，膜层结构均匀致密，机械强度高，膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下，基片温度高时，吸附原子的动能随之增大，形成的薄膜容易结晶化，并使晶格缺陷减少;基片温度低时，金属镀钛厂家电话，则没有足够大的能量供给吸附原子，因而容易形成无定形态薄膜.
PVD技术的应用范围及优缺点
其应用范围是：
1）碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等金属材料；
2）金属材料的表面硬度至少需要在HV170以上。
其优点是:
与传统磁控溅射单色PVD技术相比，双色PVD工艺更为复杂，流程更为繁杂，太康镀钛厂家电话，生产难度高，但外观效果，两种颜色的表面硬度都在HV600以上。
传统磁控溅射单色PVD技术要在实现双色效果，真空镀钛厂家电话，采取的工艺措施是在整体PVD单色的基础上把需要实现另一种颜色的区域激光镭雕掉或者磨掉。
氮化钛是镀钛涂层工艺的一种，通常情况下，这种氮化钛的颜色为金色，氮化钛不仅性能优异，且它的硬度还高达2300HV，在化工、材料等行业中运用十分广泛，那么，氮化钛涂层有哪些特点呢
氮化钛通常都是金色，其工作的温度可承受的限度为580摄氏度，可以适应于低温涂层，0.23VSNi的摩擦系数可以有效的减少摩擦力，适合于低温零件中使用，
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