有机系列阻垢剂
ATMP具有良好的螯合、低限抑制及晶格畸变作用。可阻止水中成垢盐类形成水垢，特别是碳酸钙垢的形成。ATMP在水中化学性质稳定，不易水解。在水中浓度较高时，有良好的缓蚀效果。
HEDP是一种有机酸类阻垢缓蚀剂，能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物，能溶解金属表面的氧化物。在250℃下仍能起到良好的缓蚀阻垢作用，在高pH下仍很稳定，不易水解，一般光热条件下不易分解。耐酸碱性、耐氯氧化性能较其它有机酸（盐）好。
EDTMPS是含氮有机多元酸，属阴极型缓蚀剂，与无机聚磷酸盐相比，缓蚀率高3~5倍。能与水混溶，无1毒无污染，水处理药剂供应商，化学稳定性及耐温性好，在100℃下仍有良好的阻垢效果。EDTMPS在水溶液中能离解成8个正负离子，因而可以与多个金属离子螯合，形成多个单体结构大分子网状络合物，水处理药剂，松散地分散于水中，使钙垢正常结晶被破坏。EDTMPS对硫酸钙、硫酸1钡垢的阻垢效果好。
EDTMPA具有很强的螯合金属离子的能力，与铜离子的络合常数是包括EDTA在内的所有螯合剂中较大的。EDTMPA为高纯试剂且无1毒，在电子行业可作为半导体芯片的清洗剂用于制造集成电路；在医1药行业作放i射性元素的携带剂，用于检查和治1疗疾病；EDTMPA的螯合能力远超过EDTA和DTPA，几乎在所有使用EDTA作螯合剂的地方都可用EDTMPA替代。
缓蚀阻垢剂抑制金属腐蚀的机理是，加入这类化学物质能抑制电化学腐蚀的阳极或阴极过程，或同时抑制阴、阳极过程。缓蚀阻垢剂的缓蚀机理是其功能的理论支持。
缓蚀阻垢剂与金属表面作用，有的能促使金属表面氧化，形成钝化膜；有的与金属离子作用生成难溶性产物，形成沉淀膜；有机缓蚀剂分子被金属表面强烈地吸附，将介质与金属表面隔开，能有效地抑制金属腐蚀。
缓蚀阻垢剂不受制品形状和设备结构的限制，使用简便，用量少，效果好。根据缓蚀阻垢剂的缓蚀机理，缓蚀阻垢剂的使用效果与不同材料、不同介质的各种参数和条件密切相关，使用时要严格选择。它只适用于腐蚀介质量有限的体系。
缓蚀阻垢剂的使用为了达到缓蚀阻垢的效果需要缓蚀阻垢剂有一定的稳定性，因此在使用缓蚀阻垢剂时为了达到效果，工业水处理药剂生产，还需要加强缓蚀阻垢剂的稳定性。
1、珠的电荷对缓蚀阻垢剂的稳定性有明显的影响。稳定的缓蚀阻垢剂，其液珠一般都带有电荷。由于乳状液的液珠带同种电荷，它们之间相互排斥，不易聚结，使稳定性增加。可见，液珠上吸附的缓蚀阻垢剂离子越多，其带电量越大，防止液珠聚结能力也越大，乳状液体系就越稳定。
2、阻垢剂分散介质的黏度对缓蚀阻垢剂的稳定性有一定影响。一般，分散介质的黏度越大，缓蚀阻垢剂的稳定性越高。这是因为分散介质的黏度大，对液珠的布朗运动阻碍作用强，污水处理药剂，减缓了液珠之间碰撞，使体系保持稳定。此外高分子还能形成坚固的界面膜，使缓蚀阻垢剂体系更加稳定。
3、某些情况下加入固体粉未也能使缓蚀阻垢剂趋于稳定。固体粉未处于水、油中或界面上，取决于油、水对固体粉未的润湿能力，若固体粉未完全为水润湿，又能被油润湿，才会滞留于水油界面上。
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