微弧氧化技术的发展
微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院（低能核物理研究所）（北京市辐射中心）1992年起开发的科研课题，先后得到教委、九五863高技术研究发展计划、自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”，1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过教委和863组的联合鉴定。2002年微弧氧化设备获得重点新产品证书，钛微弧氧化生产线，2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明。
阳极氧化膜层与微弧氧化膜层的区别是什么？
由微弧氧化膜层的生长机理可知，阳极氧化是微弧氧化的初级阶段。阳极氧化发生的是化学反应，而微弧氧化除化学反应外，微弧氧化生产线，还伴随有电化学、高温等离子体等反应。其膜层由于是在高温下生成（瞬间高温度超过3K摄氏度），膜层与基体间为冶金结合，微弧氧化生产线优势，因此与基体结合良好。另外，膜层为氧化物瞬间冷凝形成，具有较高的致密度和硬度以及良好的耐腐蚀性能，良好的绝缘性等。但归跟到底，镁微弧氧化生产线，微弧氧化膜层与阳极氧化膜层醉的的差别在于：膜与基体的结合力，膜层内部致密性及相结构。这几种差别引起了微弧氧化膜层与阳极氧化膜层其它方面的性能差异。
微弧氧化电源性能指标
微弧氧化电源采用的双极性大功率脉冲电源，具有、运行稳定、噪声低、对电网干扰小等优点。微弧氧化电源已获得发明，其特征在于采用多重电网滤波器和变压器隔离的三相平衡供电，利用功率开关元件进行斩波变换，获得脉冲宽度连续可调的大功率正、负脉冲。
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