随着各行各业的发展需要，阻垢剂的需求不断发展壮大，因而为了满足更夯歌也的需要，阻垢剂在技术和运用领域都在不断的发展。特别是在油井中的使用，为大家解决了燃眉之急
油井用清蜡防腐阻垢剂，应用于油井进行清蜡防腐防垢，其特征在于：原料组分重量比是，多亚乙烯多胺聚氧丙i烯聚氧乙烯醚：3.4-12%；FC-N01氟碳表面活性剂：0.02-0.10%；甲醛：4.5-9.5%；乌洛i托品：3.2-7.4%；羟基乙叉二磷酸钠：15-25%；水：35-58%.按配制工艺配制。
阻垢剂需要清蜡防腐防垢的油井上应用清蜡防腐阻垢剂效果很好，满足了油井的清蜡防腐防垢要求。
有机系列阻垢剂
ATMP具有良好的螯合、低限抑制及晶格畸变作用。可阻止水中成垢盐类形成水垢，特别是碳酸钙垢的形成。ATMP在水中化学性质稳定，不易水解。在水中浓度较高时，缓释阻垢剂价格，有良好的缓蚀效果。
HEDP是一种有机酸类阻垢缓蚀剂，能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物，能溶解金属表面的氧化物。在250℃下仍能起到良好的缓蚀阻垢作用，在高pH下仍很稳定，不易水解，一般光热条件下不易分解。耐酸碱性、耐氯氧化性能较其它有机酸（盐）好。
EDTMPS是含氮有机多元酸，属阴极型缓蚀剂，与无机聚磷酸盐相比，缓蚀率高3~5倍。能与水混溶，无1毒无污染，化学稳定性及耐温性好，在100℃下仍有良好的阻垢效果。EDTMPS在水溶液中能离解成8个正负离子，因而可以与多个金属离子螯合，形成多个单体结构大分子网状络合物，松散地分散于水中，使钙垢正常结晶被破坏。EDTMPS对硫酸钙、硫酸1钡垢的阻垢效果好。
EDTMPA具有很强的螯合金属离子的能力，与铜离子的络合常数是包括EDTA在内的所有螯合剂中较大的。EDTMPA为高纯试剂且无1毒，在电子行业可作为半导体芯片的清洗剂用于制造集成电路；在医1药行业作放i射性元素的携带剂，用于检查和治1疗疾病；EDTMPA的螯合能力远超过EDTA和DTPA，几乎在所有使用EDTA作螯合剂的地方都可用EDTMPA替代。
缓蚀阻垢剂不同的组成成分可以产生不同的功能，因此，应用的领域也会有所不同。我们对缓蚀阻垢剂的不同成分组成以及作用进行了分析。
由有机酸、聚羧酸、碳钢缓蚀剂等组成的缓蚀阻垢剂，对水中的碳酸钙、磷酸钙等均有很好的螯合分散作用并且对碳钢具有良好的缓蚀效果，主要用于钢铁厂循环冷却水系统的缓蚀阻垢，其缓蚀效果好、阻垢力强。
由有机酸、聚羧酸、碳钢缓蚀剂及铜缓蚀剂复配而成的缓蚀阻垢剂，对水中的碳酸钙、硫酸钙、磷酸钙等均有很好的螯合分散作用并且对碳钢、铜具有良好的缓蚀效果。
不同成分所擅长的领域也不尽相同，但都有缓蚀阻垢的效果。缓蚀阻垢剂，主要用于循环冷却水系统缓蚀阻垢，如电厂、化工厂、石化、钢铁等循环冷却水系统，缓蚀阻垢剂缓蚀效果好、阻垢力强。
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