曝光
曝光是指将涂有感光层的PS版置于晒版机工作台上，放好底片，成像曝光机，通过曝光 获得一种潜在或可见图像的过程。曝光是一切光化学成像方法的基本过程与主要特征。曝光，曝光模式即计算机采用自然光源的模式，通常分为多种，PCB曝光，手动曝光、AE锁等模式。照片的好坏与曝光有关，也就是说应该通多少的光线使CCD能够得到清晰的图像。曝光量由通光时间（快门速度决定），通光面积（光圈大小）决定。
LDI
LDI，英文全称是laser direct imaging，中文全称是激光直接成像技术，用于pcb工艺中的曝光工序，与传统的底片接触曝光方法有所不同。
汇编语言指令为装载有效地址。
LD：取指令（常开触点） Load
LDI：取反指令（常闭触点）Load Inverse
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晒版机（曝光机）的工作原理及操作步骤
晒版机是用于制作印版的一种接触曝光成像设备。
操作要求：
（1）工作环境温度应在0-40℃，友迪激光PCB，相对湿度要小于80%；工作玻璃应符合GB 4871－1995中一等品的规定。有效工作表面不得有划伤、气泡、霉变等缺陷；工作面的照度均匀度不得小于86%。具体检测方法如下：在无干扰光源的情况下，苏州PCB，将光源调整到正常工作的较低位置，把精度不±4%的照度计测头置于工作玻璃面上测取版框中心、四角及各边中心的照度值Li，按公式A=[1-(|Li-L| max)/L]×计算晒版机工作面上的照度均匀度，其中：A为照度均匀度，Li为各测点照度值，L为9个测点照度平均值。
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