高纯氧如何制备？
高纯氧主要通过物理分离与化学纯化两种方式制备。
物理法以空气分离液化精馏为主，利用氧、氮沸点差异，通过多级精馏塔逐级分离提纯，可规模化生产，林州高纯氧，单套装置日产量可达吨级，且能耗较低。
化学法包括电解水纯化与催化脱氢技术，电解水后经多级纯化可制取99.999%超高纯氧，但能耗高、成本大，适合小规模需求。
此外，变压吸附、膜分离及催化-精馏耦合技术也可用于高纯氧制备，前者通过吸附剂选择性吸附杂质，后者在提取ke氙时同步提纯高纯氧，实现资源综合利用。
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在半导体制造中，高纯氧是生产芯片的关键气体之一，用于氧化硅片、清洗设备和作为载气。
高纯氧的高纯度和稳定性确保了芯片制造过程中的和低污染。例如，在氧化工艺中，高纯氧与硅反应生成二氧化硅层，作为芯片的绝缘层；
在清洗过程中，高纯氧用于去除表面杂质，提高芯片性能。由于半导体对气体纯度要求很高，高纯氧需经过多次净化，去除微量杂质，高纯氧价格，以满足生产工艺需求。随着半导体行业的发展，高纯氧的需求将持续增长。
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高纯氧与普通氧气有啥区别？
高纯氧与普通氧气区别明显。
纯度上，高纯氧纯度可高达99.99%甚至99.999%以上，高纯氧报价，普通氧气纯度通常只有99%。
用途上，高纯氧广泛应用于电子、能源、环保等领域，普通氧气多用于医liao、工业等基础领域。
价格上，高纯氧生产成本高，所以价格通常比普通氧气高出20%左右。
安全性上，高纯氧纯度高，更易助燃，使用需更注意安全。
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