产品特点:
v 材料的亲水性:
采用特殊冒泡聚氨基甲酸酯,对于抛光液的濡湿性亲水性）出众.
v 基层纤维厚度的均一性:
抛光压力及抛光液的流动量均一
v 起泡的泡囊长度均一性:
抛光压力及抛光液的流动量均一以及抛光效率的均一性高
v 起泡的泡囊形状均一性:
抛光液的含量均一,因此抛光效率均一性高
v 起泡的泡囊的开口口径均一性:
抛光效率均一性高
v 基层材料采用微细纤维,厚度均一性及压力均一性都优越，抛光
v 绒毛长度更长,良好的亲水性和抛光液流动率,通过减薄工艺,更好保持抛光后的面型精度
v 兼容性好,蓝宝石,水晶,晶片,铝合金，不锈钢等金属五金的精抛光用
CMP抛光布广泛应用于硅Si、锗Ge、砷化镓（GaAs）、蓝宝石、水晶、金属等粗抛以及精密抛光。日本的信越半导体（硅片）、京瓷（蓝宝石）、并木（蓝宝石）、俄罗斯MonoCrystal（蓝宝石）、等多家公司都在使用该抛光布。
