本公司长期需要各大厂家晶圆东芝.现代.三星.镁光蓝膜晶圆。
大量收购.EHL9、FFF1、EEU3、EGW1、HTX4、HTX5、K9GAG08UOE、
L84、EGZ9、FGC4、FGC2等系列晶圆。
由于离心力的作用，光刻胶在基片表面均匀地展开 EEU3晶圆回收，多余的光刻胶被甩掉 GVG5晶圆回收，获得一定厚度的光刻胶膜 晶圆回收，光刻胶的膜厚是由光刻胶的粘度和甩胶的转速来控制。所谓光刻胶，是对光、电子束或X线等敏感 HTX5晶圆回收，具有在显影液中溶解性的性质，同时具有耐腐蚀性的材料。
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蒸发原料的分子（或原子）的平均自由程长（ 10 -4 Pa 以下，达几十米），所以在真空中几乎不与其他分子碰撞可直接到片。
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