技术特点
•采用半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器，性能指标包括脉冲的稳定性、脉宽、峰值功率等参数均达到世界水平。
•膜面朝上非接触式工作台设计不但能有效的解决玻璃运行中的平稳性，还能解决玻璃摩擦问题。
•采用全自动控制，包括自动进出料、自动识别、自动跟踪、自动校正和自动定位。
•自动校正和自动定位，这在国际还是首创。当检测到电池片缺陷时，可立即进行重刻和补刻。
应用及市场
非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。
型号规格
SEF-G5-P1
激光波长
1064nm
有效加工幅面
1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ）
运行速度
2000mm/s
重复定位精度
±10μm
刻线直线度
±10μm / 1000 mm
典型刻膜线宽
30～60μm
三线外沿总宽度
300～500μm
设备性能
•该设备采用非接触式的工作台，不但解决了玻璃运行中的平稳性，还有效地解决了摩擦问题。
•使用世界的激光器，其性能指标包括脉冲的稳定性、脉宽、峰值功率等参数均达到世界水平。
•控制方面，采用全自动控制，包括自动进出料、自动识别、自动跟踪、自动校正和自动定位，这在国际还是首创。
•当检测到电池片缺陷时，可立即进行重刻和补刻；更可选择全部检测或抽检。
•G5”属于高标设备配置，国内的客户基本要做的是“减法”而不是“加法”。当客户不需要某些功能时，可根据要求去除,更可根据实际要求进行定制。
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