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大量收购.EHL9、FFF1、EEU3、EGW1、HTX4、HTX5、K9GAG08UOE、
L84、EGZ9、FGC4、FGC2等系列晶圆。
由于离心力的作用 N9ZN晶圆回收，光刻胶在基片表面均匀地展开 K9GAG08UOE晶圆回收，多余的光刻胶被甩掉，获得一定厚度的光刻胶膜，光刻胶的膜厚是由光刻胶的粘度和甩胶的转速来控制。所谓光刻胶，是对光、电子束或X线等敏感 K9G4G08UOA晶圆回收，具有在显影液中溶解性的性质，同时具有耐腐蚀性的材料。
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因只在高温下反应故用途被限制，但由于其可用领域中 晶圆回收，则可得致密高纯度物质膜，且附着强度极强，若用心控制，则可得安定薄膜即可轻易制得触须(短纤维)等，故其应用范围极广。热CVD法也可分成常压和低压。
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