Ge靶锗靶，金属靶材，溅射靶材 北京石久高研金属材料有限公司致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供的靶材和蒸发料。 密 度：5.35g/cm3 蒸发方式：电子束，石墨舟 坩 埚： Al2O3，五氧化三钛报价，石英 透明范围/nm:1700-100000 外 观：银灰色晶体 在10-4Torr蒸发温度：1167℃ 溶 解 于：热硫酸、王水，内蒙古五氧化三钛报价，不与水作用，河南五氧化三钛报价，不溶于盐酸和稀硫酸 莫氏硬度：6.0-6.5石久高研专注15年提供高纯靶材 、高纯靶材欢迎来电咨询~~
高纯镀膜铜粒/高纯铜粒 北京石久高研金属材料有限公司致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，天津五氧化三钛报价，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供的靶材和蒸发料。 铜粒，铜靶，高纯铜，高纯铜粒，高纯铜靶化学符号：Cu原 子 量：63.546外观纯铜：紫红色金属熔 点：1083.4℃沸 点：2567℃密 度：8.92g/cm3蒸 发 源（丝、片）：钨、钽、钼、铌坩 埚：Mo、C、Al2O3在10-4Torr蒸发温度：1017℃ 薄膜的机械和化学性质：膜层附着不好，利用中间层Cr可增加附着力；石久高研专注15年提供高纯靶材 、高纯靶材欢迎来电咨询~~986高纯入口钛粒，高纯钛靶 北京石久高研金属材料有限公司致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供的靶材和蒸发料。蒸发温度：饱跟 蒸汽压为1.33Pa时为1750蒸起源资料：(W、Ta)(丝、片)，（C、ThO2）坩埚特色：机械强度年夜，有杰出的可塑性，轻易制造，有杰出的抗腐化机能。用处：重要用作半导体资料跟 超高真空装配中的吸气资料。石久高研专注15年提供高纯靶材 、高纯靶材欢迎来电咨询~~ 五氧化三钛报价、内蒙古五氧化三钛报价、石久高研(商家)由北京石久高研金属材料有限公司提供。五氧化三钛报价、内蒙古五氧化三钛报价、石久高研(商家)是北京石久高研金属材料有限公司（shijiugaoyan168.b2b.hc360.com）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取新的信息，联系人：史永泰。 产品：石久高研供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
