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[供应]气氛真空炉多硅晶烧结气氛炉 氢气还原炉 箱式气氛炉

更新时间:2018/3/31 14:43:39
气氛真空炉多硅晶烧结气氛炉 氢气还原炉 箱式气氛炉
一、多硅晶气氛炉用途
设备用途:高温气氛炉是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测。粉末冶金行业以及义齿加工行业的烘烤、氧化锆盘预烧结等。根据加热区大小,进行小试,中试,批量生产。
二 、多硅晶气氛炉结构
1、炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封,炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、出气口、抽真空口。
2、炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成,节能50%,加热元件采用钼丝。
3、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能,该控制系统温度显示精度为1℃,温场稳定度±5℃,升温速率1~20℃可任意设置。
4、可以通氢气、氩气、氮气等其他气体,并能预抽真空,真空度可以达到20kPa,气氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成,安全可靠,符合。
三、多硅晶气氛炉参数
型号
工作室尺寸mm
外形尺寸mm
 
额定温度
(℃)
功率
(KW)
电压
(V)
TDRG-4-13
100×150×250
540×530×580
 1300℃
4
220
TDRG-6-13
100×150×250
600×640×627
6
380
TDRG-8-13
160×250×400
660×555×800
8
380
注:可根据用户要求另行设计制造,更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询!
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