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主营产品:蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜设备,电子束蒸发镀膜机,CVD设备

[供应]北京电子束蒸发镀膜仪报价_电子束蒸发镀膜仪_泰科诺科技

更新时间:2018/7/14 2:25:16
北京电子束蒸发镀膜仪报价_电子束蒸发镀膜仪_泰科诺科技




在真空镀膜中`AR表示什么`北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。电子束蒸发镀膜仪真空镀膜:一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜设备结构如图1。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。想要了解更多,欢迎拨打图片上的电话吧!!! 电子束蒸发镀膜机原理北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,北京电子束蒸发镀膜仪,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,北京电子束蒸发镀膜仪供应商,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。电子束蒸发镀膜仪原理:在高真空下,电子枪灯丝加热后发射热电子,被加速阳极加速,获得很大的动能轰击到的蒸发材料上,把动能转化成热使蒸发材料加热气化,而实现蒸发镀膜。电子束蒸发源由发射电子的热阴极、电子加速极和作为阳极的镀膜材料组成。电子束蒸发源的能量可高度集中,使镀膜材料局部达到高温而蒸发。通过调节电子束的功率,可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率,特别是有利于高熔点以及高纯金属和化合物材料。技术指标:可在高真空下蒸发不同厚度的各种金属与氧化物薄膜,广泛应用于物理,北京电子束蒸发镀膜仪报价,生物,化学,材料,电子等领域。蒸镀薄膜种类:Au,电子束蒸发镀膜仪, Ti, Cr, Ag, Al, Cu, FeNi, AuGe, Pt, Pb, In, Mo, SiO2等极限真空:5E-8 Torr( 30分钟从 atm 抽到 5E-6 Torr )薄膜均匀性:±4% ( 4英寸 )装片:小于6英寸的任意规格的样品若干想要了解更多,欢迎拨打图片上的电话吧!!!  北京电子束蒸发镀膜仪报价_电子束蒸发镀膜仪_泰科诺科技由北京泰科诺科技有限公司提供。北京泰科诺科技有限公司(www.technol.cn)实力雄厚,信誉可靠,在北京 昌平区 的工业自动控制系统及装备等行业积累了大批忠诚的客户。公司精益求精的工作态度和不断的完善理念将引领泰科诺科技和您携手步入,共创美好未来! 产品:泰科诺科技供货总量:不限产品价格:议定包装规格:不限物流说明:货运及物流交货说明:按订单
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