三个1?????????????????????????????????????????????????????????????????? 蒸发镀膜机—北京泰科诺科技有限公司?????? 北京泰科诺科技15年真空行业经验，蒸发类产品市场占有率达80%，现货交付各种蒸发镀膜机;985，211高校实验室全覆盖，专为各大高校，科研院所和生产企业服务；拥有独立研发实验室和完善售后服务系统，支持售前试样服务；产品通过ISO9000、CE等多项认证，获得10多项专利。????? 公司成立于2003年，目前有逾1000台设备运转，产品遍布各地（含港澳台），远销至美国、澳大利亚、土耳其、马来西亚等国，深受用户好评。主要包含热蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜设备、电子束蒸发镀膜机、多弧离子溅射镀膜机、热丝CVD设备、装饰镀膜机、DLC硬质涂层设备等等。蒸发镀膜机技术参数 Thermal Evaporator Technical Parameters：型号Model: ? ? ? ? ? ? ? ? ????????? ZHD300/ZHD400/ZHDS400镀膜方式Coating Method: ? ? ?? 电阻蒸发/多源蒸发腔室结构 Chamber Structure: ? 玻璃钟罩/立式方形前开门/方箱式前后开门腔室尺寸Chamber Size: ? ? ? ???? Φ300×H360mm/L400×W440×H450mm加热温度 Baking Temp: ? ? ? ???? 室温～300℃旋转基片台 Rotating Substrate Holder: ? ? ?? Φ100mm/120mm×120mm基片台升降 Substrate Holder Lifting: ? ? ? ? ?? 无/手动调节升降高度0～80mm膜厚不均匀性 Film Thickness Nonuniformity: ? 基片台Φ80mm范围内≤±5.0%蒸发源Evaporation Source: ? ? 2组金属源/2~4组金属源、2~4有机源(可选)控制方式Operation Method: ? ? ? PLC功率 Power: ? ? ? ? ? ? ? ????????? ≥3.2kW/≥8kW/≥10kW其他选配 Other Options: ? ? ?? 蒸发电源/膜厚仪/冷水机/等产品特点 Product Features：1. 工艺成熟，性能稳定，使用维护成本低；2. 功能强大，兼容有机蒸发与无机蒸发，多元共蒸与分蒸；3. 一体化设计，占地面积小，可单独或与手套箱集成使用；4. 适用范围：用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜等，也可用于生产线前期工艺试验；广泛用于钙钛矿太阳能电池、OPV有机太阳能电池、OLED薄膜等研究系统等等。真空镀膜机知识分享：蒸发镀膜和磁控溅射镀膜的区别？?????? 真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。????? 真空蒸发镀膜是在真空度不10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。????? 真空蒸发镀膜常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，学校热蒸发镀膜设备生产厂家，目前只能在少数研究性实验室中使用。???? 溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。学校热蒸发镀膜设备????? 真空电镀设备镀膜前为何需要清洗？北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，学校热蒸发镀膜设备厂商，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。学校热蒸发镀膜设备学校热蒸发镀膜设备厂真空电镀设备镀膜前为何需要清洗？真空电镀设备使用一段时间后，学校热蒸发镀膜设备，需要清洗，很多人会问为什么？不定期清洗会会有什么问题呢？下面分析一下真空电镀设备不清洗会怎样。使用真空电镀设备镀膜之前，对镀膜材料做简单的清洗可以延长镀膜机的使用寿命，由于各种污染物不仅会使真空系统不能获得所需要的真空，真空元件也会影响镀膜机部件的连接强度和密封性能。真空镀膜机中常见的污染物：1、油包括加工，装配，操作期间用到的润滑油，切削液，真空油脂等；2、操作时，手汗、吹气时口中的唾沫、水蒸气、酸、碱、盐等；材料清洗时的残余物质，手汗，水中的矿物质；空气中的尘埃和其它有机物残留和抛光粉尘等。清理这些污染物，有助于提高真空电镀设备工作的稳定性，学校热蒸发镀膜设备厂，使工作可以更顺利地进行。想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。? 蒸发镀膜设备 Thermal Evaporator产品参数Product Parameters：型号Model: ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?ZHD300/ZHD400/ZHDS400镀膜方式Coating Method: ? ? ? ?电阻蒸发/多源蒸发腔室结构 Chamber Structure: ? 玻璃钟罩/立式方形前开门/方箱式前后开门腔室尺寸Chamber Size: ? ? ? ? ? ??Φ300×H360mm/L400×W440×H450mm加热温度 Baking Temp: ? ? ? ? ? ? 室温～300℃旋转基片台 Rotating Substrate Holder: ? ? ? ? ?Φ100mm/120mm×120mm基片台升降 Substrate Holder Lifting: ? ? ? ? ? ? ??无/手动调节升降高度0～80mm膜厚不均匀性 Film Thickness Nonuniformity: ??基片台Φ80mm范围内≤±5.0%蒸发源Evaporation Source: ? 2组金属源/2~4组金属源、2~4有机源(可选)控制方式Operation Method: ? ? ? PLC功率 Power: ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ??≥3.2kW/≥8kW/≥10kW其他选配 Other Options: ? ? ? ?蒸发电源/膜厚仪/冷水机/等产品特点 Product Features：1. 工艺成熟，性能稳定，使用维护成本低；2. 功能强大，兼容有机蒸发与无机蒸发，多元共蒸与分蒸；3. 一体化设计，占地面积小，可单独或与手套箱集成使用；4. 适用范围：用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜等，也可用于生产线前期工艺试验；广泛用于钙钛矿太阳能电池、OPV有机太阳能电池、OLED薄膜等研究系统等等。学校热蒸发镀膜设备 北京泰科诺(图),学校热蒸发镀膜设备厂商,学校热蒸发镀膜设备由北京泰科诺科技有限公司提供。北京泰科诺科技有限公司（www.technol.cn）坚持“以人为本”的企业理念，拥有一支的员工队伍，力求提供好的产品和服务回馈社会，并欢迎广大新老客户光临惠顾，真诚合作、共创美好未来。北京泰科诺——您可信赖的朋友，公司地址：北京市昌平区回龙观镇建材城西路87号院8号楼新龙大厦A座12层1218室，联系人：朱经理。 产品：北京泰科诺供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
