真空镀膜机的结构真空镀膜机的结构真空卷绕镀膜机由真空罐、真空抽气系统、蒸发系统、卷绕系统、冷却系统及电气系统组成。真空罐是整台真空镀膜设备的主体部件，国产真空镀膜装置，其结构为圆柱形筒体，左端为圆形封头封闭，右端的法兰与卷绕车的大圆板对接实现密封。外部联接抽气管道，内部空间用于在真空状态中镀制产品，分为上下室，上室是基材卷绕室，下室是铝丝蒸发镀膜室。想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！ 泰科诺真空镀膜机使用范围适用范围1．建筑五金：卫浴五金（如水）．门锁．门拉手．卫浴、五金合叶、家具等。2．制表业：可用于表壳．表带的镀膜、水晶制品。3．其它小五金：皮革五金．不锈钢餐具．眼镜框、刀具、模具等．4．大型工件：汽车轮毂、不锈钢板．招牌．雕塑等。5、不锈钢管和板（各种类型表面）6、家具、灯具、宾馆用具。7、锁具、拉手、卫浴五金、高尔夫球头、不锈钢餐具、器皿等五金制品镀超硬装饰膜。8、手表、表带、眼镜、首饰等装饰品镀超装饰（金银）纳米膜和纳米膜和纳米叠层膜。想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！蒸发镀膜机—北京泰科诺科技有限公司 蒸发镀膜机技术参数 Thermal Evaporator Technical Parameters：型号Model:ZHD300/ZHD400/ZHDS400镀膜方式Coating Method: 电阻蒸发/多源蒸发腔室结构 Chamber Structure: 玻璃钟罩/立式方形前开门/方箱式前后开门腔室尺寸Chamber Size:Φ300×H360mm/L400×W440×H450mm加热温度 Baking Temp:室温～300℃旋转基片台 Rotating Substrate Holder: Φ100mm/120mm×120mm基片台升降 Substrate Holder Lifting: 无/手动调节升降高度0～80mm膜厚不均匀性 Film Thickness Nonuniformity: 基片台Φ80mm范围内≤±5.0%蒸发源Evaporation Source: 2组金属源/2~4组金属源、2~4有机源(可选)控制方式Operation Method: PLC功率 Power: ≥3.2kW/≥8kW/≥10kW其他选配 Other Options: 蒸发电源/膜厚仪/冷水机/等产品特点 Product Features：1. 工艺成熟，性能稳定，使用维护成本低；2. 功能强大，兼容有机蒸发与无机蒸发，多元共蒸与分蒸；3. 一体化设计，占地面积小，可单独或与手套箱集成使用；4. 适用范围：用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜等，也可用于生产线前期工艺试验；广泛用于钙钛矿太阳能电池、OPV有机太阳能电池、OLED薄膜等研究系统等等。 真空镀膜机知识分享：蒸发镀膜和磁控溅射镀膜的区别？真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。真空蒸发镀膜常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，国产真空镀膜装置生产厂，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。国产真空镀膜装置 国产真空镀膜装置生产厂,北京泰科诺,国产真空镀膜装置由北京泰科诺科技有限公司提供。国产真空镀膜装置生产厂,北京泰科诺,国产真空镀膜装置是北京泰科诺科技有限公司（www.technol.cn）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：朱经理。 产品：北京泰科诺供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
