苏州军拓五金厂是一家专注于研磨抛光设备和研磨抛光材料的公司，公司技术和研发实力雄厚。。在细抛光过程中施加的压力应比粗抛光时轻，抛光液不要太浓，绒盘要保持一定的湿度。因为呢绒太干，容易将磨面划伤，出现较深较多的划痕；呢绒太湿也不好，会使磨面氧化。呢绒湿度随着抛光过程的进行而逐渐减少。经常观察试样细抛光的情况，抛光，提起后在试样的抛光面上不粘带抛光液及小的水珠。而保持一吹即干的水膜时，要轻轻抛光。待试样的粗抛光磨痕消失，基体清亮，拿起后在试样的抛光面上无水膜时，试样的细抛光已经合适。 苏州军拓五金厂是一家专注于研磨抛光设备和研磨抛光材料的公司，公司技术和研发实力雄厚。抛光剂（俗称：光亮剂）：淡黄色或黄色透明液体制剂。根据市场需求不断演化出针对不同材质的制剂（大至有不锈钢抛光剂、镁合金抛光剂、铜抛光剂、铝合金抛光剂、玻璃抛光粉、钻研抛光粉等）。??用 途：适合各种不锈钢或金属制品抛光。性 状：液体产品。工艺条件：抛光机配套使用腐 蚀 性：对不锈钢无腐蚀，保持金属表面光亮度，不变色，无毛刺。毒 性：无i毒，不污染环境。配 比：1:5~10(以能润湿工件为准)温 度：常温使用苏州军拓五金厂是一家专注于研磨抛光设备和研磨抛光材料的公司，公司技术和研发实力雄厚。CMP概念CMP，即Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光。CMP技术所采用的设备及消耗品包括：抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。CMP技术的概念是1965年由Monsanto首i次提出。该技术初是用于获取高质量的玻璃表面，如军i用望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM 的制造中，而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM 的生产中以后，CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。CMP抛光液CMP抛光液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。 抛光-苏州军拓五金厂.(图)由苏州军拓五金厂提供。抛光-苏州军拓五金厂.(图)是苏州军拓五金厂（hnsjszp.com）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：李总。 产品：军拓五金供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
