磁控溅射镀膜的特点：磁控溅射镀膜技术通过磁场的加入，改变并延长电子的运动轨迹，使其能与氩气充分的碰撞，电离出更多的Ar+轰击靶材，从而提高了溅射速率；受到正交电场和磁场共同作用的电子，在能量基本耗尽时，激光器真空系统，才沉积到基片上，避免了基片的温度上升。这就造就了磁控溅射的两大优点：溅射速率高，基片温度低。另外，通过磁控溅射工艺得到的薄膜与基片的附着力强，大理真空，薄膜的牢固度很强。
低温抽气的主要作用是低温冷凝、低温吸附和低温捕集。①低温冷凝：气体分子冷凝在冷板表面上或冷凝在已冷凝的气体层上，其平衡压力基本于冷凝物的蒸气压。抽空气时，冷板温度必须 25K；抽氢时，冷板温度更低。低温冷凝抽气冷凝层厚度可达10毫米左右。②低温吸附：气体分子以一个单分子层厚 (10-8厘米数量级)被吸附到涂在冷板上的吸附剂表面上。磁控溅射镀膜是气象淀积的一种，广泛应用于电子，真空材料处理，建筑，真空炉，汽车等行业中，尤其适用于镀膜。磁控溅射镀膜以其高速、低温、几乎可以溅射任何材料的特点，现在已经成为应用广泛的薄膜制备方法之一。磁控溅射镀膜的薄膜均匀性、成膜质量、镀膜速率以及工艺的稳定性和重复性是人们非常关心的问题，而设备的稳定性直接决定了工艺的稳定性。磁控溅射的种类很多，按所用电源分，可以分为直流磁控溅射、射频磁控溅射、中频磁控溅射。 真空炉-诺思【客户至上】-大理真空由沈阳诺思真空技术有限公司提供。真空炉-诺思【客户至上】-大理真空是沈阳诺思真空技术有限公司（tcvac.com）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：王经理。 产品：诺思真空供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
