铝镁加混悬液胶体磨，氢氧化铝氢氧化镁胶体磨，铝镁加混悬液胶体磨，传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨，转速只有3000rpm，生产出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，为此有医药厂家在考察了国内的设备之后，放弃了具有极度价格优势的国内设备，来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海IKN高速胶体磨。该设备转速达到14000RPM，这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。转速是普通分散设备3-4倍，研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小，效果更好混悬液胶体磨CMD2000三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。
混悬液中的微粒大小是不均匀的，大的微粒总是迅速沉降，细小微粒沉降速度很慢，细小微粒由于布朗运动，可长时间悬浮在介质中，使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时，应使混悬微粒有适当的分散度，粒度均匀，以减小微粒的沉降速度，使混悬液处于稳定状态。
高剪切胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
从设备角度分析，影响研磨效果的因素：
1 磨头的形式（卧式和立式）
2 磨头的剪切速率
3 磨头的齿形结构（见磨头结构）
4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间
5 循环次数
研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
研磨速率 s-1 v 速率 m/s
g 定-转子 间距 m
由上可知，研磨速率取决于以下因素：
– 磨头的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）
速率V 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
IKN高速纳米胶体磨是一种对液体状物料或加有液体的物料的循环粉碎研磨装置及对该物料进行循环粉碎研磨的方法。
IKN公司作为医药工业中的之名企业，是可靠而的合作伙伴。IKN公司的产品组合包括用来生产均质乳浊液和悬浮液以及用来混合流动性固体的机器和设备。IKN公司的混合技术涵盖整个药品生产范围：从低粘度产品（如注射剂、混悬液）到高粘度产品（如栓剂和牙科浆状体）。
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