真空镀膜电镀的镀液与工艺选择一)镀液选择? 镀液与工艺参数的选定，是产品进行电镀前必要的工作。镀液与所用的工艺条件，须由产品的要求来确定。目前能采用的工艺已经很多，不同的配方和工艺条件可以 很容易地查到。选择镀液的配方和配套的工艺，首要的是能针对性地满足产品的质量要求，其次便是考虑可能得以实施的环境和条件。? 产品要求电镀，一般大多是为了装饰防护或者增强其功能。无论是何种目的，所镀出的镀层都必须是一层均匀的完整覆盖，这是基本的要求。如果被镀件形状复 杂，或具有小的内孔、凹陷或盲孔，或者材料与表面很特殊，电镀工艺就必须细致研究分析后才确定，以便满足这些特殊情况。镀液是否能具备足够的宏观与微观分 散能力，显然是必须要考虑的。? 通常电镀溶液的配方大体上可以分为两类。按照电极上离子交换时具备的形态，简单的水合离子和加入络合剂或鳌合剂后生成的较复杂离子。在分散能力、电镀速 度、镀层结晶结构和特性等方面都有明显差别。如果零件形状并不特别复杂，镀层也能满足要求时，宜尽量选用较简单的镀液配方。这样不仅成本低，易于控制和管 理，而且更重要的是污水也较易治理。 真空镀膜? 所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，黄江真空镀膜工厂，使之蒸发或升华，真空镀膜，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。镀膜的方法在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。主要分为一下几类：蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，黄江真空镀膜厂，称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状，通以电流，加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质（图1[蒸发镀膜设备示意图]）电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。真空镀膜的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如ya)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，黄江真空镀膜报价，带正电的ya离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。 黄江真空镀膜厂-真空镀膜-深盛塑料制品厂家由 东莞市深盛塑料制品有限公司提供。 东莞市深盛塑料制品有限公司（www.e.tz1288.com）是从事“加工、产销：手机外壳、化妆品外壳、五金制品、电子产品”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：张先生。 产品：深盛塑料制品供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
